세계 산업화의 가속화와 함께 화학 산업은 파이프라인 시스템의 성능에 대한 요구 사항을 점점 더 엄격하게 적용하고 있습니다. 고온, 고압, 강한 부식과 같은 극한 환경에서 기존 파이프 재료는 안전, 환경 보호 및 경제성 요구 사항을 충족하기 어려워졌습니다. 티타늄 리듀서는 새로운 유형의 파이프 연결 부품으로, 뛰어난 내식성, 경량 설계 및 우수한 유체 전환 성능으로 화학 파이프라인 시스템에서 두각을 나타내며 업계의 주목을 받는 "스타 재료"가 되었습니다.
①극한 부식 환경에 대한 티타늄 리듀서의 내성
포괄적인 내식성 보장
끓는 염산, 질산 및 차아염소산염 매질에서의 부식 속도는 연간 0.018mm 미만으로, 스테인리스강보다 15배 이상 우수합니다. 특히 황산 및 염산과 같은 강한 부식성 매체의 운송에 적합합니다.
표면 산화막은 자체 수리가 가능하며 염화 이온을 포함하는 환경에서 핏팅 부식에 대한 뛰어난 저항성을 가지며 국부적인 천공의 위험을 방지합니다.
특수 매체와의 호환성
건조 염소 가스 환경은 수분 함량을 ≥0.5% 이상 유지해야 합니다. 그렇지 않으면 연소를 유발할 수 있습니다. 습식 염소 환경은 완전히 안정적입니다.
유기산 및 고온 알칼리 용액에서의 부식 속도는 제어 가능하지만, 강한 환원산(예: 농축 황산)과의 장기간 접촉은 피해야 합니다.
②구조적 성능 및 경량 설계
고압 하중 지지
원추형 전환 구역의 압력 증가 및 침식 부분은 매질의 충격에 저항하기 위해 20%-30% 두껍게 합니다.
경량
밀도 4.51g/cm³(강철의 57%), 지지대 및 설치 비용 절감;
고온 안정성
장기간 적용 가능한 온도 ≤300℃, 단기적으로 600℃ 작동 조건 허용.
③긴 수명과 경제성
수명 연장: 동일한 부식 환경에서 스테인리스강 파이프 피팅의 10배 이상 수명으로 교체 빈도 감소.
낮은 유지 보수 비용: 부식 방지 코팅 불필요, 세척 빈도 감소.
시스템 신뢰성: 와전류 검사/방사선 검사를 100% 통과하여 갑작스러운 누출 위험 방지.
④선택 및 설치의 핵심 사항
재료 매칭 원칙
일반 매체: 높은 비용 효율성을 제공하므로 TA2(Gr2)를 선호합니다.
염산/환원산: TA10(Gr12, 몰리브덴-니켈 합금 포함)을 사용해야 합니다.
구조적 보강 요구 사항
편심 리듀서를 수평 파이프라인에 사용할 경우 가스 축적을 방지하기 위해 편심을 표시해야 합니다.
용접은 이종 재료의 계면 부식을 방지하기 위해 등급(예: TA2와 TA2 파이프)과 일치해야 합니다.
표면 처리 필수 항목
부동태 피막의 완전성을 보장하고 용접 영역의 내식성을 향상시키기 위해 산세(HF/HNO₃) 또는 전해 연마.
⑤전형적인 화학적 응용 시나리오
염소-알칼리 산업
전해조에서 농축탑으로의 리듀서 연결, 습식 염소 및 알칼리 용액의 이중 부식에 강함.
질산 공장
고온(≤200℃) 농축 구역의 리듀서, TA2 재료의 부식 속도는 연간 0.1mm 미만.
해수 담수화
고압 펌프의 입구 및 출구 직경을 변경하여 염화 이온 부식 및 해수 침식에 저항합니다.
설계 경고
강한 침식 매체의 경우 원추형 벽 두께를 추가로 늘리고 유속을 ≤3m/s로 제어해야 합니다.
티타늄 리듀서는 기술 혁신을 통해 기존 파이프의 한계를 극복하여 화학 산업에 안전하고 효율적이며 친환경적인 솔루션을 제공합니다. 고성능 재료에 대한 글로벌 수요가 지속적으로 증가함에 따라 시장 규모와 응용 분야가 더욱 확대될 것입니다. 미래에는 지능형 제조 및 신소재 연구 개발을 통해 티타늄 리듀서가 화학 파이프라인 시스템의 "표준 구성"이 되어 산업이 더욱 지속 가능하고 지능적인 방향으로 나아가는 데 기여할 것으로 예상됩니다.
